李田这边，他忙了一会儿工作，就是开始去新的地方，他使用了一张任务卡。

        任务要求他进入科技圈，成功研发芯片。

        开什么玩笑，这个任务着实有点困难了，要知道目前的手机芯片已经到了7纳米，5纳米的芯片也跟着快出来了，这是何等的夸张。又岂是普通人就能够研发出来的？

        李田有一些头疼，这次的任务着实也太硬核了。

        没有办法，李田只能选择先去国外，使用一个分身进入到研发芯片的机构。

        还好李田能力通天，这点还是可以做到的。

        芯片除了最重要的设计外，还有光刻机。

        光刻的工作原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶，再用光线（一般是紫外光、深紫外光、极紫外光）透过掩模照射在硅片表面，被光线照射到的光刻胶会发生反应。

        光刻完成后对没有光刻胶保护的硅片部分进行刻蚀，最后洗去剩余光刻胶，就实现了半导体器件在硅片表面的构建过程。

        看起来好像光刻机的工作原理不是特别复杂，但实际上的难度很大，需要非常强的光刻技术，而掌握全球最强光刻技术的就是荷兰。

        荷兰的ASML公司在全球45nm以下的高端光刻机市场中占有80%的份额，而且目前全球只有ASML可以生产7nm精度光刻机。

        所以李田如果想要学习技术，除了使用系统外挂外，就是要到这家公司实际考察一番。

        不然，很难完成超越，据说苹果12手机的A14芯片都将会打到5纳米的工艺，是何等的恐怖。

        追赶芯片技术确实有点难。

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